刊名全称:PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING ISSN:02724324
|
|
JCR期刊信息
| JCR刊名缩写：PLASMA CHEM PLASMA P |
影响因子(2024) ：2.5 |
| 5年影响因子(2019-2024)：3 |
| SCIE收录情况：有 |
| SSCI收录情况：无 |
| A&HCI收录情况：无 |
JCR学科及分区 ： |
→SCIE：ENGINEERING, CHEMICAL(Q3)
→SCIE：PHYSICS, APPLIED(Q3)
→SCIE：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS(Q2)
|
|
ESI期刊信息
| ESI刊名缩写：PLASMA CHEM PLASMA PROCESS |
| ESI学科：CHEMISTRY |
|
中科院分区信息
| 学科大类及分区：物理与天体物理(3) |
| 学科小类及分区：ENGINEERING, CHEMICAL(工程：化工 :3) |
| 学科小类及分区：PHYSICS, APPLIED(物理：应用 :3) |
| 学科小类及分区：PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS(物理：流体与等离子体 :3) |
|
|
|
Copyright © 2014 武汉大学图书馆 版权所有
